ปล่อยลูกเล่น “เครื่องสำอาง” เสริมสร้างจินตนาการหรือเสี่ยงอันตราย

0

คุณแม่ๆ ที่มีลูกสาวทั้งหลาย  เมื่อถึงเวลาหนึ่งส่วนใหญ่มักจะเป็นอายุตั้งแต่ 3 ขวบขึ้นไป ซึ่งเป็นวัยกำลังช่างสังเกต และจดจำพฤติกรรมคนรอบตัว เชื่อว่าคุณแม่ต้องเคยประสบปัญหาเดียวกันอย่างแน่นอน  คือ เมื่อลูกสาวตัวน้อยเริ่มอยากรู้อยากเห็นอยากลองและอยากเลียนแบบ  ก็หนูอยากสวยเหมือนแม่นี่คะ บางคนเลยมักจะร้องขอทาแป้ง  ทาลิปสติก คุณแม่ก็คงจะให้บ้าง  ให้บ้าง  เชื่อเถอะว่านางคงยังไม่สะใจ  ก็เลยต้องแอบเอาเครื่องสำอางชิ้นโปรดของคุณแม่มาเล่น

เมื่อเป็นอย่างนี้แล้ว  ควรจะปล่อยเลยตามเลย  สนับสนุนให้เป็นน้องแพรพาเพลินไปอีกคน หรือควรจะยั้งๆ ไว้ก่อนดีนะ

First lipstick

ข้อดี

  • ทำให้ลูกได้ฝึกจินตนาการและความคิดสร้างสรรค์
  • ได้ฝึกกล้ามเนื้อแขนและนิ้วมือ ในการทาแป้ง ทาปาก
  • ฝึกสมาธิและความตั้งใจ

ข้อเสีย

  • การแต่งหน้าอาจกระตุ้นให้ลูกโตก่อนวัยอันควร
  • ลูกอาจได้รับสารเคมีจากเครื่องสำอางมากเกินไป

ข้อแนะนำ

  • อย่าดุลูกมากเกินไป เพราะอาจทำให้ลูกเกิดตกใจ ฝังใจ และรู้สึกลบในใจ
  • หากลูกยังแอบเล่นเครื่องสำอางอยู่ คุณแม่ต้องบอกเหตุผลกับลูกว่าไม่ควรเล่นเครื่องสำอางตามลำพัง  หากอยากแต่งหน้าจริงๆ ควรให้คุณแม่เป็นคนแต่งหน้าให้
  • จัดเครื่องสำอางสำหรับเด็กโดยเฉพาะ เช่น นำแป้งฝุ่นสำหรับเด็กใส่ตลับเปล่า หรือลิปมันมีสีอ่อนๆ สำหรับเด็ก ที่ไม่มีส่วนผสมของสารเคมีให้ลูกเล่น  เป็นต้น
  • จัดสรรปันส่วนอุปกรณ์คุณแม่คุณลูกอย่างชัดเจน สร้างกติกาการใช้เครื่องสำอาง  เช่น

kids make up Strengthen fantasy or risk (1)

สอนให้ลูกรู้จักใช้อุปกรณ์และเครื่องสำอางของตัวเอง  ไม่ใช้ปะปนกับคนอื่น (สอนเรื่องสุขลักษณะและป้องกันการแอบเล่นเครื่องสำอางคุณแม่ไปในตัว)  อนุญาตให้แต่งเฉพาะโอกาสสำคัญสำคัญหรือเสาร์อาทิตย์เท่านั้น (ลูกจะได้เรียนรู้ความเหมาะสมเรื่องการแต่งหน้าแต่งตัวที่เกินวัยเกินกาลเทศะด้วย)

การสนใจเรื่องแต่งหน้าแต่งตัวเป็นเรื่องธรรมชาติของเด็กผู้หญิงที่ไม่ได้แปลว่าต้องแก่แดดแก่ลมเสมอไป  แล้วก้ไม่ใช่เรื่องใหญ่เรื่องโตที่คุณแม่ต้องห้ามปรามอย่างเข้มงวดอะไรนะคะ เด็กวัยนี้กำลังต้องการแรงบันดาลและมีจินตนาการอย่างไรขอบเขต คุณแม่ต้องแนะนำและช่วยส่งเสริมและจัดเตรียมสิ่งที่เหมาะสมให้ลูกเท่านี้เองค่ะ คุณแม่กับคุณลูกก็สามารถมีเรื่องสนุกสนานให้คุยกันได้แล้ว 🙂

 

 

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked *